GexSi1—x/Si应变超晶格的质量鉴别 |
| |
引用本文: | 李梅,葛中久.GexSi1—x/Si应变超晶格的质量鉴别[J].吉林大学自然科学学报,1996(2):63-65. |
| |
作者姓名: | 李梅 葛中久 |
| |
摘 要: | 采用分子束外延方法生长了GexSi1-x/Si应变超晶格,利用X射线双晶衍射,小角衍身宽角衍射方法测量了超晶格样品的实验衍射曲线,运用X射线运动学理论和动力学理论,分析,模拟了样品的实验曲线,得到了精确的定量结构参数数据,并根据实验曲线中衍射峰的位置和分布情况对应变超晶格的生长质量做了评价。
|
关 键 词: | 双晶回摆曲线 应变层超晶格 半导体 超晶格 |
本文献已被 维普 等数据库收录! |
|