| 退火处理对氧化锌薄膜的特性影响 |
| |
| 引用本文： | 刘晓花,田臻锋.退火处理对氧化锌薄膜的特性影响[J].咸宁学院学报,2005,25(6):31-33,48. |
| |
| 作者姓名： | 刘晓花 田臻锋 |
| |
| 作者单位： | 1. 郑州大学,河南,郑州,450052;焦作师范高等专科学校,河南,焦作,454000
2. 郑州大学,河南,郑州,450052 |
| |
| 摘 要： | 用脉冲激光沉积法（PLD）制备氧化锌薄膜，600℃进行退火处理，分别从XRD衍射谱、原子力显微镜（AFM）照片及光致发光等方面对薄膜结构等进行研究并探讨退火处理对薄膜的影响．
|
| 关 键 词： | ZnO薄膜 PLD 退火处理 |
| 文章编号： | 1006-5342（2005）06-0031-03 |
| 收稿时间： | 10 14 2005 12:00AM |
| 修稿时间： | 2005-10-14 |
Effect on ZnO Film From the Annealing Temperatures |
| |
| LIU Xiao-hua,TIAN Zhen-feng.Effect on ZnO Film From the Annealing Temperatures[J].Journal of Xianning College,2005,25(6):31-33,48. |
| |
| Authors: | LIU Xiao-hua TIAN Zhen-feng |
| |
| Institution: | 1. Zhengzhou University, Zhengzhou 450052, China ;2. Jiaozuo Teachers College ,Jiaozuo 454000, China |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | ZnO film PLD Anneale |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
