| 压印光刻中高精度莫尔对准方法的研究 |
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| 引用本文： | 王艳蓉,崔东印,丁玉成,王莉.压印光刻中高精度莫尔对准方法的研究[J].西安交通大学学报,2005,39(7):719-721,752. |
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| 作者姓名： | 王艳蓉 崔东印 丁玉成 王莉 |
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| 作者单位： | 西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室,710049,西安 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(50275118)，国家高科技研究发展计划重点资助项目(2002AA420050)，国家重点基础研究发展规划资助项目(2003CB716202). |
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| 摘 要： | 针对分步压印光刻工艺中多层套刻的高精度对准问题,提出一种应用斜纹结构光栅副实现x、y、θ三自由度自动对准的方法.光栅副分为4个区域,应用光电转换器阵列检测光栅副相对移动所引起的莫尔信号变化,通过电路系统处理可同时得到在平面x、y、θ三自由度的对准信号.驱动环节采用直线电机和压电驱动器作为宏微两级驱动,其分辨率分别为0.2μm和0.1nm,在激光干涉仪全程监测下,与控制系统一起构成闭环系统实现自动对准定位.实验结果表明,在多层压印光刻工艺中,实现了压印工作台步进精度小于10nm的高精度定位要求,使整个对准系统的套刻精度小于30nm.因此,应用这种莫尔对准方法可以获得较高的对准精度,同时能够满足压印100nm特征尺寸套刻精度的要求.
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| 关 键 词： | 压印光刻 光栅 自动对准 驱动器 |
| 文章编号： | 0253-987X(2005)07-0719-03 |
Automatic High Precision Alignment Technique Using Moiré Signals for Imprint Lithography |
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| Wang Yanrong,Cui Dongyin,Ding Yucheng,Wang Li.Automatic High Precision Alignment Technique Using Moiré Signals for Imprint Lithography[J].Journal of Xi'an Jiaotong University,2005,39(7):719-721,752. |
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| Authors: | Wang Yanrong Cui Dongyin Ding Yucheng Wang Li |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | imprint lithography grating automatic alignment actuator |
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