极薄钨单质种子层制备形貌疏松的三氧化钨薄膜的电致变色性能研究 |
| |
引用本文: | 高嘉豪,陈浩霖,黎泽锐,李华,张泽辉,温启峰,唐秀凤.极薄钨单质种子层制备形貌疏松的三氧化钨薄膜的电致变色性能研究[J].五邑大学学报(自然科学版),2022(1):14-20. |
| |
作者姓名: | 高嘉豪 陈浩霖 黎泽锐 李华 张泽辉 温启峰 唐秀凤 |
| |
摘 要: | 氧化钨薄膜(3WO)具有出色的电致变色性能,但是目前物理法制得的3WO薄膜形貌往往比较致密,从而影响其变色性能和循环寿命.本文采用磁控溅射方法,首先在I TO透明导电基底上制备一层极薄的钨(W)单质薄膜,之后在W薄膜上方制备3WO薄膜,通过调控W单质薄膜的疏松形貌对3WO薄膜形貌进行调控以提高其电致变色性能.为了保证薄...
|
关 键 词: | 3WO/W复合薄膜 磁控溅射 形貌调控 电致变色 |
|
|