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| Cu基电化学沉积纳米Ni的影响因素研究 | |
| 作者姓名： | 崔虹云 胡明 王天浩 孙建波 |
| 摘 要： | 研究Cu基底上电化学沉积Ni过程中的影响因素,包括镀液中活化剂、光亮剂、沉积电压、沉积时间和外加磁场干预下的纳米Ni催化剂的制备效果,通过场扫描系统及X-射线仪进行表征,为纳米Ni催化剂的制备提供一定的理论基础. |
| 关 键 词： | 电化学沉积；纳米Ni；晶粒度 |
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