亚波长微纳光学的前沿研究(一) |
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作者姓名: | 庄松林 王琦 朱亦鸣 耿滔 张大伟 |
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作者单位: | 1.中国工程院院士, 2博士,35教授,4副教授,教育部光学仪器与系统工程研究中心;上海市现代光学系统重点实验室;上海理工大学光电信息与计算机工程学院,上海200093 |
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基金项目: | 上海市重点学科项目第三期项目(S30502);上海市超精密光学加工与检测服务平台建设(11DZ2290301) |
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摘 要: | 材料与结构在微纳米尺度展现了许多不同于宏观尺度的新特征,微纳加工技术已经成为当前科学研究与工业开发的热门领域之一。笔者简要介绍了负折射材料和黑硅这两种微纳光学材料的制备及其特性,展示了微纳光学材料在新技术中的广阔前景和科技创新中的重要作用。
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关 键 词: | 负折射 反常多普勒效应 黑硅 |
收稿时间: | 2012-03-26 |
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