| 不同硅源中硅还原的研究 |
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| 引用本文： | 邓守强,施月循.不同硅源中硅还原的研究[J].东北大学学报(自然科学版),1989(5). |
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| 作者姓名： | 邓守强 施月循 |
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| 作者单位： | 东北工学院炼铁教研室
(邓守强)，东北工学院炼铁教研室(施月循) |
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| 摘 要： | 不同硅源中的SiO_2 在实验条件下的还原都未达到平衡。焦炭、焦炭灰、硅石中的SiO_2 比炉渣中的容易还原得多。炉渣和焦炭都是生铁的重要硅源。如使用硅石使生铁增硅,改善它与还原剂的接触条件是提高硅还原率的重要因素。实验还证实了高炉内硅还原的途径是:SiO_2→SiO→〔Si〕。
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| 关 键 词： | 硅还原 硅源 还原率 |
On the Reduction of SiO_2 from Various Silicon Sources |
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| Deng Shouqiang,Shi Yuexun.On the Reduction of SiO_2 from Various Silicon Sources[J].Journal of Northeastern University(Natural Science),1989(5). |
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| Authors: | Deng Shouqiang Shi Yuexun |
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| Institution: | Deng Shouqiang;Shi Yuexun |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | reduction of SiO_2 silicon source reduction rate |
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