| 薄膜沉积过程的分子动力学模拟 |
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| 引用本文： | 程东,严立,严志军.薄膜沉积过程的分子动力学模拟[J].大连海事大学学报(自然科学版),2004,30(2):82-85,89. |
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| 作者姓名： | 程东 严立 严志军 |
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| 作者单位： | 大连海事大学,轮机工程学院,辽宁,大连,116026 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金，交通部博士基金，50071014，200232522504，， |
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| 摘 要： | 应用嵌入原子势作为势函数，对薄膜沉积过程进行分子动力学模拟，来模拟不同工艺条件下的成膜过程、薄膜质量及各参数变化对成膜的影响．结果表明，衬底温度越高，则原子在薄膜表面的扩散能力越强，薄膜内部的空位密度越小．但衬底温度对薄膜质量的影响只在一定范围内比较明显；原子自身携带的能量越高，则其扩散能力也越强，特别是在衬底温度较低时，这项影响越大；随着原子入射角的增大，薄膜表面的纤维状生长及阴影响应越明显，薄膜的质量则明显下降．
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| 关 键 词： | 分子动力学模拟 薄膜沉积过程 嵌入原子法 物理气相沉积 |
| 文章编号： | 1006-7736(2004)02-0082-04 |
Molecular dynamics simulations of physical vapor deposition |
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