| Ag溅射参数对FePt/Ag薄膜取向生长的影响 |
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| 引用本文： | 范九萍.Ag溅射参数对FePt/Ag薄膜取向生长的影响[J].山西师范大学学报,2007,21(1):77-79. |
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| 作者姓名： | 范九萍 |
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| 作者单位： | 山西师范大学化学与材料科学学院 山西临汾041004 |
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| 摘 要： | 采用有交互作用的正交实验方法对磁控溅射法在玻璃基片上制备FePt/Ag纳米双层膜Ag底层的溅射参数进行研究.通过直观分析,方差分析和XRD图分析,可以选出Ag底层诱导FePt层取向生长的最佳溅射条件,为FePt磁性层性能的进一步研究应用奠定了基础.
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| 关 键 词： | FePt/Ag双层膜 溅射参数 正交实验 |
| 文章编号： | 1009-4490（2007）01-0077-03 |
| 收稿时间： | 2006-10-23 |
| 修稿时间： | 2006年10月23 |
Effects of Sputtering Factors on Ag on the FePt/Ag Thin Films Tropism Growing |
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| FAN Jiu-ping.Effects of Sputtering Factors on Ag on the FePt/Ag Thin Films Tropism Growing[J].Journal of Shanxi Teachers University,2007,21(1):77-79. |
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| Authors: | FAN Jiu-ping |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | FePt/Ag doublerlayer films sputtering factors orthogonal experiment |
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