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| 直流磁控溅射TiNiCu薄膜靶材制备方法研究 | |
| 引用本文： | 卞铁荣,卢正欣,井晓天.直流磁控溅射TiNiCu薄膜靶材制备方法研究[J].科技咨询导报,2006(18). |
| 作者姓名： | 卞铁荣 卢正欣 井晓天 |
| 作者单位： | 泸州医学院附院分子医学生物中心，西安理工大学材料科学与工程学院，西安理工大学材料科学与工程学院 西安理工大学材料科学与工程学院 |
| 摘 要： | 通过对直流磁控溅射TiNiCu薄膜的靶材制备方法的研究发现：镶嵌与熔炼两种方法均成功地制备了所设计成分的薄膜,而粉末冶金与在TiNi靶上放置纯Cu片的制备靶材方法虽未能制备出质量良好的薄膜,但本文对其制备靶材方法做了初步的探究,对出现的问题提出了针对性的建议。 |
| 关 键 词： | TiNiCu靶镶嵌 熔炼 |
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