| Au(Cu、Ag)／SiO_2纳米薄膜的制备及其微观结构表征 |
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| 引用本文： | 张芸,张波萍,焦力实.Au(Cu、Ag)／SiO_2纳米薄膜的制备及其微观结构表征[J].辽宁工程技术大学学报(自然科学版),2006(Z2). |
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| 作者姓名： | 张芸 张波萍 焦力实 |
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| 作者单位： | 北京科技大学材料科学与工程学院，大连理工大学环境与生命学院 大连 116024，北京科技大学材料科学与工程学院，北京科技大学材料科学与工程学院，北京 100083，北京 100083，北京 100083 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(50572008)，辽宁省自然科学基金资助项目(20042157)，教育部新世纪优秀人才支持计划资助项目(NCET-04-0105) |
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| 摘 要： | 用多靶磁控溅射技术制备了不同形貌的Au(Ag、Cu)纳米颗粒分散SiO2薄膜。利用透射电镜对Au／SiO2薄膜的微观结构、表面形貌进行了表征。结果表明通过调控金属颗粒的沉积时间和靶材的溅射频率可以制备不同形貌金属颗粒ISi02单层薄膜。单层Au／SiO2薄膜中Au沉积时问为5s时,Au颗粒为圆形,当沉积时间为10s时,Au颗粒连接成网络状结构;单层AgiSi02薄膜中,Ag靶的射频功率为150W时,颗粒形状接近圆形,Ag靶的射频功率为100W时,Ag颗粒几乎密集在一起,形成膜状结构:单层Cudsi02薄膜中Cu的沉积时间为10s时,Cu颗粒形成网络状结构,Cu的沉积时问为20s时,形成的是Cu膜。
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| 关 键 词： | 纳米颗粒 磁控溅射 薄膜 微观结构 |
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