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| 溅射制备NiTi薄膜的表面组态对晶化热处理的影响 | |
| 作者姓名： | 宫峰飞()() 姜恩永() 沈惠敏() 王业宁() |
| 作者单位： | 天津大学物理系，天津大学物理系，南京大学固体微结构国家重点实验室，南京大学固体微结构国家重点实验室 天津300072 南京大学固体微结构国家重点实验室，南京210093，天津 300072，南京 210093，南京 210093 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目 |
| 摘 要： | 溅射制备的NiTi薄膜因其在智能薄膜系统中的广泛应用而受到重视.通常情况下,溅射制备获得的NiTi薄膜是非晶.而非晶Ni-Ti薄膜没有形状记忆效应,因此要进行晶化热处理.但是,在较高温度和/或较长时间下晶化热处理时,我们发现有挥发物出来.分析结果表明其成分为Ti,在仪器的测量误差范围内,没有探测到Ni的存在.Ti的挥发导致表面腐蚀,并使薄膜的质量下降.如果假设NiTi薄膜的表面与内部组分是均匀一致的.那么,根据平衡蒸气压原理,就应该在挥发物中同时测量到Ti和Ni的成分.因此,只有弄清这个问题,才能够有目的地改进制备工艺.为获得高质量的薄膜打下基础. |
| 关 键 词： | 溅射制备 镍钛合金 薄膜 表面组态 晶化热处理 |
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