| 薄膜厚度对ＺｎＯ：Ａｌ透明导电膜的结构和光电性能的影响 |
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| 引用本文： | 杨田林,杨光德.薄膜厚度对ＺｎＯ：Ａｌ透明导电膜的结构和光电性能的影响[J].淄博学院学报(自然科学与工程版),2002(2):32-35. |
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| 作者姓名： | 杨田林 杨光德 |
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| 作者单位： | 山东理工大学 山东淄博255091
(杨田林)，山东理工大学 山东淄博255091(杨光德) |
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| 摘 要： | 采用射频磁控溅射法在有机薄膜衬底和 70 5 9玻璃衬底上在室温下制备出了因淀积时间变化而厚度不同的ZnO :Al透明导电膜 ,并对不同厚度薄膜的结构特性、表面形貌和光电特性进行了比较研究 .铝掺杂的氧化锌薄膜是多晶膜具有六角纤锌矿结构 ,最佳取向为 (0 0 2 )方向 .淀积时间为 3 0分钟的薄膜具有最低的电阻率 ,分别为 2 .5 5× 1 0 3Ω·cm和 1 .89× 1 0 3Ω·cm ,在可见光区的平均透过率分别达到了 80 %和 85 %以上 .
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| 关 键 词： | 厚度 ZnO:Al透明导电膜 性能比较 |
Thickness Dependence of Structural,Optical and Electrical Properties for ZnO:Al Transparent Conducting Films |
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| YANG Tian-lin,YANG Guang-de.Thickness Dependence of Structural,Optical and Electrical Properties for ZnO:Al Transparent Conducting Films[J].Journal of Zibo University(Natural Sciences and Engineering),2002(2):32-35. |
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| Authors: | YANG Tian-lin YANG Guang-de |
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