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α-Si:H快速退火电学性质的研究
作者姓名:董会宁  杨文颖
作者单位:四川师范大学固体所
摘    要:对α-Si:H材料作快速退火固体晶化工艺处理,Hal效应测试表明:随着退火温度的增加,μH和σ逐渐增加.经800℃,8min退火后,样品电导率激活能0.104eV.

关 键 词:α-Si:H,快速退火,霍尔效应
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