| 深紫外非线性光学晶体材料:发展趋势和创新探索 |
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| 引用本文： | 盖敏强,王颖,潘世烈.深紫外非线性光学晶体材料:发展趋势和创新探索[J].科学通报,2018(11). |
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| 作者姓名： | 盖敏强 王颖 潘世烈 |
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| 作者单位： | 中国科学院新疆理化技术研究所新疆电子信息材料与器件重点实验室中国科学院特殊环境功能材料与器件重点实验室;中国科学院大学 |
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| 摘 要： | 随着全固态激光技术在光通讯、光加工和光存储等领域的发展,深紫外非线性光学晶体材料成为目前国内外的研究热点.深紫外(λ200 nm)非线性光学(NLO)晶体是获得全固态深紫外激光的必不可少的材料.目前仅有KBe_2BO_3F_2(KBBF)晶体能够实现Nd:YAG的直接六倍频深紫外激光(波长=177.3 nm)输出.然而,KBBF晶体存在难以克服的本征缺陷,如原料氧化铍有剧毒、晶体存在严重的层状生长习性,从而极大地制约了其商业化生产和应用进程.因此,世界各国科研机构都在积极探索发展新一代的深紫外NLO晶体材料.本文通过回顾深紫外NLO晶体的发展历程,总结近十年来该领域新材料的发展趋势,重点分析限制深紫外NLO晶体发展的主要因素,讨论目前发展深紫外NLO晶体材料的主要矛盾和解决策略,以期对未来新材料的创新探索提供借鉴.
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