|
|||||
|
|
| Si3N4/TiN纳米多层膜的超硬效应 | |
| 作者姓名： | 许俊华 顾明元 李戈扬 金燕苹 |
| 作者单位： | 上海交通大学,金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030;上海交通大学,金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030;上海交通大学,金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030;上海交通大学,金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030 |
| 摘 要： | 采用磁控反应溅射工艺制备了Ｓｉ３Ｎ４／ＴｉＮ陶瓷纳米多层膜,运用Ｘ射线衍射、航向电镜和显微硬度仪等对纳米多层膜的微结构、应力状态和硬度进行测试。研究结果表明,Ｓｉ３Ｎ４／ＴｉＮ多层腹中,Ｓｉ３Ｎ４层为非晶态,ＴｉＮ层为晶态,Ｓｉ３Ｎ４／ＴｉＮ多层膜的显微硬度既受调制周期＾的影响,同时又与调制比有关,当调制比ｌｓｉ３Ｎ４／ｌＴｉＮ＝３和调制周期＾＝１２．０ｎｍ左右时,多层膜的显微硬度达到最大值,其数 |
| 关 键 词： | Si3N4/TiN 纳米多层膜 显微硬度 微结构 |
| 修稿时间： | 1998-12-10 |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ | |