高压反偏硅PN结的漏电流对研磨损伤层的影响 |
| |
引用本文: | 张德贤,田敬民.高压反偏硅PN结的漏电流对研磨损伤层的影响[J].西安交通大学学报,1988(3). |
| |
作者姓名: | 张德贤 田敬民 |
| |
作者单位: | 西安交通大学,陕西机械学院 |
| |
摘 要: | 本文通过对硅整流管反偏直流产生电流温度关系、伏安特性和对应的深能级瞬态谱(DLTS)的研究,揭示了均为硬转折特性的试样漏电流有较大差异的根源是:表面研磨损伤层引入了新的深中心,使PN结的漏电流增加了一个隧道电流分量;并分析了导电机理.根据理论分析,修正了反偏PN结漏电流理论.
|
关 键 词: | 硅 PN结 漏电流 |
本文献已被 CNKI 等数据库收录! |
|