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InP补底上LP—MOCVD生长InAs自组装量子点
引用本文:王本忠,刘式墉.InP补底上LP—MOCVD生长InAs自组装量子点[J].吉林大学自然科学学报,1997,13(2):70-72.
作者姓名:王本忠  刘式墉
作者单位:集成光电子国家重点联合实验室吉林大学实验区
摘    要:报道利用低压金属有机化学气相沉积技术在InP衬底上生长InAs自组装量子点的结果,用光致发光技术观察到较强的室温光荧光谱,其峰值波长约为1603nm,分布在1300nm ̄1700nm范围内,半高峰宽为80meV。

关 键 词:砷化铟  自组装量子点  MOCVD  磷化铟  衬底
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