InP补底上LP—MOCVD生长InAs自组装量子点 |
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引用本文: | 王本忠,刘式墉.InP补底上LP—MOCVD生长InAs自组装量子点[J].吉林大学自然科学学报,1997,13(2):70-72. |
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作者姓名: | 王本忠 刘式墉 |
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作者单位: | 集成光电子国家重点联合实验室吉林大学实验区 |
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摘 要: | 报道利用低压金属有机化学气相沉积技术在InP衬底上生长InAs自组装量子点的结果,用光致发光技术观察到较强的室温光荧光谱,其峰值波长约为1603nm,分布在1300nm ̄1700nm范围内,半高峰宽为80meV。
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关 键 词: | 砷化铟 自组装量子点 MOCVD 磷化铟 衬底 |
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