| 表面活性剂对稀土荧光反应的影响——Ⅰ 离子型表面活性剂存在下 Ln~(3+)(Ln=Sm,Eu,Tb)-β-二酮、Ln~(3+)-β-二酮-有机碱及水溶性体系的荧光光谱 |
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| 引用本文： | 高锦章,杜新贞,康敬万,白光弼.表面活性剂对稀土荧光反应的影响——Ⅰ 离子型表面活性剂存在下 Ln~(3+)(Ln=Sm,Eu,Tb)-β-二酮、Ln~(3+)-β-二酮-有机碱及水溶性体系的荧光光谱[J].西北师范大学学报,1990(3). |
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| 作者姓名： | 高锦章 杜新贞 康敬万 白光弼 |
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| 作者单位： | 西北师范大学化学系，西北师范大学化学系，西北师范大学化学系，西北师范大学化学系 |
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| 摘 要： | 讨论了阴离子型表面活性剂(SDS)和阳离子型表面活性剂(CTMAB、Zeph 和 CPC)对 Ln~(3+)-β-二酮二元体系、Ln~(3+)-β-二酮-Phen(或 DPG)三元体系及 Tb~(3+)-AA-EDTA、Tb~(3+)-Tiron、Tb~(3+)-H_2Sal-EDTA 水溶性体系荧光光谱的影响,发现不同的表面活性剂对不同的反应体系影响不尽一致.增敏程度与表面活性剂和荧光配位体的结构有关。
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| 关 键 词： | 表面活性剂 稀土 荧光反应 |
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