基于ANSYS的原子层沉积加热系统温度均匀性分析 |
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作者姓名: | 孙彦庆 周临震 冯嘉恒 吴有德 |
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作者单位: | 1. 盐城工学院机械工程学院;2. 嘉兴科民电子设备技术有限公司 |
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摘 要: | 为了研究提高原子层沉积加热系统温度均匀性的有效解决方案,采用ANSYS仿真软件建立原子层沉积反应室模型。利用控制变量法,以提高衬底的温度均匀性为目标,观察气体入口流量、电阻片与加热盘的距离和加热温度对反应室热场的影响。随着气体流量的增加,底部流动边界层趋于稳定,加热盘的温度场分布更加均匀;随着加热盘与电阻片之间距离的增大,从电阻片到达石墨盘下表面的热量减少,石墨盘表面最高温度和温差都随之减小,温度均匀性得到提高;随着加热温度的升高,加热盘表面温度增高,因此,可以通过分区加热来提高加热盘表面温度均匀性。
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关 键 词: | 原子层沉积 反应室 温度均匀性 仿真分析 |
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