新型电子清洗工艺对半导体表面的清洗效果 |
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引用本文: | 曹宝成,马洪磊.新型电子清洗工艺对半导体表面的清洗效果[J].山东大学学报(自然科学版),1995,30(2):174-177. |
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作者姓名: | 曹宝成 马洪磊 |
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摘 要: | 报告了一种新型电子清洗工艺,该工艺采用了被命名为DZ-1和DZ-2的两种新型电子清洗剂分别与95%体积的去离子水配制成清洗液,先后用超声波清洗,用高频C-V测试和原子吸收光谱分析研究了清洗效果,用该工艺清洗过的硅片生长的二氧化硅层中固定电荷密度在10^10cm^-2数量级,去重金属离子能力与常规CMOS/SOS栅氧化工艺相当,新型清洗工艺具有操作简单,价格低廉,且无毒,无腐蚀和对人体无危害,对环境
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关 键 词: | 半导体表面 清洗工艺 电子清洗剂 |
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