| TiNi形状记忆合金薄膜结晶粒子的长大行为 |
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| 引用本文： | 孟繁玲,李永华,刘常升,徐跃,王煜明.TiNi形状记忆合金薄膜结晶粒子的长大行为[J].吉林大学学报(理学版),2008,46(3):531-534. |
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| 作者姓名： | 孟繁玲 李永华 刘常升 徐跃 王煜明 |
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| 作者单位： | 1. 东北大学 材料与冶金学院, 沈阳 110004; 2. 哈尔滨工程大学 理学院, 哈尔滨 150001; 3. 吉林大学 测试科学实验中心, 长春 130021; 4. 吉林大学 材料科学与工程学院, 长春 130012 |
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| 摘 要： | 将采用直流磁控溅射方法制备的TiNi薄膜沉积在玻璃衬底上, 在退火温度为500 ℃时, 应用X射线衍射（XRD）和小角X射线散射（SAXS）研究室温溅射的TiNi合金薄膜结晶粒子的长大行为. 结果表明, 薄膜中的晶化粒子约在前13 min以成核的方式生成, 而在13 min后不断长大, R3G与退火时间t的关系不完全满足Lifshitz’s动力学理论.
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| 关 键 词： | TiNi薄膜 结晶粒子 小角X射线散射 |
| 文章编号： | 1671-5489(2008)03-0531-04 |
| 收稿时间： | 2007-12-11 |
| 修稿时间： | 2007年12月11 |
The Behavior of Crystalline Grain Growth in TiNi Shape Memory Alloy Thin Films |
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| MENG Fan-ling,LI Yong-hua,LIU Chang-sheng,XU Yue,WANG Yu-ming.The Behavior of Crystalline Grain Growth in TiNi Shape Memory Alloy Thin Films[J].Journal of Jilin University: Sci Ed,2008,46(3):531-534. |
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| Authors: | MENG Fan-ling LI Yong-hua LIU Chang-sheng XU Yue WANG Yu-ming |
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| Institution: | 1. School of Materials and Metallurgy, Northeastern University, Shenyang 110004, China;2. School of Sciences, Harbin Engineering University, Harbin 150001, China;3. Test Science Experiment Center, Jilin University, Changchun 130021, China;4. College of Materials Science and Engineering, Jilin University, Changchun 130012, China |
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| Abstract: | NiTi thin films were deposited on glass substrate by d.c. magnetron sputtering. X-ray diffraction (XRD) and small-angle X-ray scattering (SAXS) were used to study the behavior of crystalline grain growth in TiNi alloy thin films annealed at 500 ℃. The thin films were deposited at room temperature. |
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| Keywords: | NiTi thin film crystalline gain small-angle X-ray scattering |
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