| 常压等离子体增强化学气相沉积纳米晶TiO2多孔薄膜的研究 |
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| 引用本文： | 李岩,徐绍魁,徐金洲,张菁.常压等离子体增强化学气相沉积纳米晶TiO2多孔薄膜的研究[J].东华大学学报(自然科学版),2009,35(1). |
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| 作者姓名： | 李岩 徐绍魁 徐金洲 张菁 |
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| 作者单位： | 1. 东华大学材料科学与工程学院,上海,201620
2. 东华大学理学院,上海,201620 |
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| 基金项目： | 教育部长江学者和创新团队发展计划，国家自然科学基金，国家自然科学基金重点项目 |
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| 摘 要： | 采用等离子体增强化学气相沉积(PE-cvD)的方法及TICl4/O2混合气体在常温常压下可制备纳米晶TIO2多孔薄膜.利用偏光显微镜分析(PM)、扫描电子显微镜分析(SEM)、高分辩透射电镜分析(HRTEM)、X光衍射分析(XRD)等检测手段.系统地对纳米晶TIO2多孔膜表面形貌以及成分进行表征.研究结果表明:使用等离子体化学气相沉积方法,可以在常温常压下快速沉积纳米晶TiO2多孔薄膜,并且PE-CvD与传统的化学方法相比具有低能耗、低污染、方法简便、成本低等优点,是具有良好发展前景的纳米晶多孔薄膜制备新方法.
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| 关 键 词： | 等离子体增强化学气相沉积(PE-CVD) TiO2多孔薄膜 纳米晶结构 |
Study of Porous Nanocrystalline TiO2 Thin Film Deposited by Atmospheric Pressure Plasma-Enhanced Chemical Vapour Deposition |
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| LI Yan,XU Shao-kui,XU Jin-zhou,ZHANG Jing.Study of Porous Nanocrystalline TiO2 Thin Film Deposited by Atmospheric Pressure Plasma-Enhanced Chemical Vapour Deposition[J].Journal of Donghua University,2009,35(1). |
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| Authors: | LI Yan XU Shao-kui XU Jin-zhou ZHANG Jing |
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