| 热红外低比辐射、高漫反射比表面 |
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| 引用本文： | 徐则川,刘兴阶,李佐宜.热红外低比辐射、高漫反射比表面[J].华中科技大学学报(自然科学版),1997(4). |
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| 作者姓名： | 徐则川 刘兴阶 李佐宜 |
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| 作者单位： | 华中理工大学固体电子学系 |
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| 摘 要： | 在金属和非金属基体上，制备出了热红外低比辐射率以及镜反射率和漫反射率都很低的高漫反射比表面。对黄铜基体，Ｔ＝３７３Ｋ，≥８μｍ的法向积分比辐射率ｎ＝０．１３，Ｔ＝４１３Ｋ，＝８－２５μｍ的积分镜反射率Ｒｍ＝０．１５．积分漫反射率ＲＤ＝０．１６；对Ｋ９玻璃基体Ｔ＝３７３Ｋ，≥８μｍ的ｎ＝０．１５，Ｔ＝４１３Ｋ，＝８～２５μｍ的Ｒｍ＝０．２１，ＲＤ＝０．１４．对于以Ｋ９玻璃为基体的同种表面材料镜面，在相同条件下测得ｎ＝０．１２，Ｒｍ＝０．９３．ＲＤ＝０．１２。
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| 关 键 词： | 表面，热红外，低比辐射率，高漫反射比 |
Surfaces with Thermal IR Low Emissivity and High Diffuse Reflectance Ratio |
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| Xu Zechuan Liu Xingjie Li Zuoyi.Surfaces with Thermal IR Low Emissivity and High Diffuse Reflectance Ratio[J].JOURNAL OF HUAZHONG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY.NATURE SCIENCE,1997(4). |
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| Authors: | Xu Zechuan Liu Xingjie Li Zuoyi |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | surface thermal IR : low emissivity high diffuse reflectance ratio |
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