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InGaAs/InP SAGCM APD的电流响应模型研究
引用本文:谢生,张帆,毛陆虹.InGaAs/InP SAGCM APD的电流响应模型研究[J].华中科技大学学报(自然科学版),2023(9):160-166.
作者姓名:谢生  张帆  毛陆虹
作者单位:1. 天津大学微电子学院;2. 天津市成像与感知微电子技术重点实验室;3. 天津大学自动化与信息工程学院
基金项目:国家自然科学基金资助项目(11673019);
摘    要:从吸收、渐变、电荷和倍增层分离型(SAGCM) InGaAs/InP APD的器件结构和工作原理出发,分析了载流子扩散、产生-复合等影响暗电流的主要因素,推导了光电流响应和碰撞电离倍增因子的表达式,同时考虑了温度和高偏压下隧穿效应的影响,构建了完整的电流响应模型.模型使用与通用电路仿真器完全兼容的Verilog-A语言进行描述,适用于Cadence电路设计平台中与外围电路进行协同仿真.结果表明:在300 K下模型仿真结果与实验数据在60 V偏置电压范围内均处于同一数量级,验证了所构建的APD器件模型的精确度,为光电探测系统的协同设计与整体优化提供了参考.

关 键 词:雪崩光电二极管(APD)  半导体器件模型  InGaAs/InP  电流响应  倍增因子  碰撞电离
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