| 氩离子束刻蚀制作大面阵微透镜阵列 |
| |
| 引用本文： | 张新宇,易新建,何苗,赵兴荣.氩离子束刻蚀制作大面阵微透镜阵列[J].华中科技大学学报(自然科学版),1998(Z2). |
| |
| 作者姓名： | 张新宇 易新建 何苗 赵兴荣 |
| |
| 作者单位： | 华中理工大学光电子工程系 |
| |
| 摘 要： | 对制作大面阵微透镜阵列的氩离子束刻蚀技术进行了讨论和分析．实验结果表明，衬底材料不同时，制作表面形貌良好并具有预定参数指标要求的微透镜阵列的工艺条件有明显的差异，给出了在几种衬底材料上刻蚀制作面阵微透镜阵列的离子束刻蚀速率与离子束能量之间相互关系的实测结果．
|
| 关 键 词： | 离子束刻蚀 面阵微透镜 制作 |
The Fabrication of Microlens Arrays Etched by Ar Ion Beam with Large Area |
| |
| Zhang Xinyu,Yi Xinjian,He Miao,Zhao Xingrong.The Fabrication of Microlens Arrays Etched by Ar Ion Beam with Large Area[J].JOURNAL OF HUAZHONG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY.NATURE SCIENCE,1998(Z2). |
| |
| Authors: | Zhang Xinyu Yi Xinjian He Miao Zhao Xingrong |
| |
| Institution: | Zhang Xinyu Yi Xinjian He Miao Zhao Xingrong |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | ion beam etching area microlens arrays fabricat |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ |
