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| 紫外光固化在微流控芯片技术中的应用研究进展 | |
| 引用本文： | 李娜,曹一平,张玮莹,刘继延,尤庆亮,于洁,申超,郭文勇.紫外光固化在微流控芯片技术中的应用研究进展[J].江汉大学学报(自然科学版),2015(2):133-137. |
| 作者姓名： | 李娜 曹一平 张玮莹 刘继延 尤庆亮 于洁 申超 郭文勇 |
| 作者单位： | 1. 江汉大学 柔性显示材料与技术湖北省协同创新中心 湖北 武汉 430056; 江汉大学 光电化学材料与器件省部共建教育部重点实验室 湖北 武汉 430056; 江汉大学 化学与环境工程学院 湖北 武汉 430056 2. 江汉大学 光电化学材料与器件省部共建教育部重点实验室 湖北 武汉 430056; 江汉大学 化学与环境工程学院 湖北 武汉 430056 3. 江汉大学 化学与环境工程学院 湖北 武汉 430056 4. 江汉大学 柔性显示材料与技术湖北省协同创新中心 湖北 武汉 430056; 江汉大学 光电化学材料与器件省部共建教育部重点实验室 湖北 武汉 430056; 华烁科技股份有限公司 湖北 武汉 430074 5. 江汉大学 柔性显示材料与技术湖北省协同创新中心 湖北 武汉 430056; 武汉天马微电子有限公司 湖北 武汉 430079 6. 江汉大学 柔性显示材料与技术湖北省协同创新中心 湖北 武汉 430056 |
| 基金项目： | 光电化学材料与器件省部共建教育部重点实验室开放课题 |
| 摘 要： | 报道了紫外光(UV)固化在微流控芯片技术中的应用,利用光刻技术可直接在聚合物材料上制作微通道,以减少微流控芯片的研究成本和制作周期。重点介绍了UV固化在微流控芯片发展过程中的光刻、曝光及表面改性等方面的应用及其特点,综述了近些年来UV固化在微流控芯片技术中的国内外研究现状,为微流控芯片的制备、发展及完善提供了一条可行的路径。最后在总结国内外研究现状的基础上展望了UV固化未来的发展趋势。 |
| 关 键 词： | UV固化 微流控芯片 研究现状 PDMS |
Review of UV Curing on Microfluidic Chip Technology |
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| LI Na,CAO Yiping,ZHANG Weiying,LIU Jiyan,YOU Qingliang,YU Jie,SHEN Chao,GUO Wenyong.Review of UV Curing on Microfluidic Chip Technology[J].Journal of Jianghan University:Natural Sciences,2015(2):133-137. | |
| Authors: | LI Na CAO Yiping ZHANG Weiying LIU Jiyan YOU Qingliang YU Jie SHEN Chao GUO Wenyong |
| Institution: | LI Na;CAO Yiping;ZHANG Weiying;LIU Jiyan;YOU Qingliang;YU Jie;SHEN Chao;GUO Wenyong;Jianghan Universty Flexible Display Mater & Tech Co-Innovation Center of Hubei;Jianghan Universty Key Laboratory of Optoelectronic Chemical Materials and Devices of Ministry of Education;Jianghan Universty School of Chemistry and Environmental Engineering,Jianghan University;Haiso Technology Co.,Ltd;Wuhan Tianma Microelectronics Co.,Ltd.; |
| Abstract: | |
| Keywords: | UV curing process microfluidic chip PDMS |
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