| 磁控溅射实验仪器的改进 |
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| 引用本文： | 王勇,王将,陈平,文小玲,郭家智.磁控溅射实验仪器的改进[J].实验科学与技术,2005,3(3):115-116. |
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| 作者姓名： | 王勇 王将 陈平 文小玲 郭家智 |
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| 作者单位： | 1. 昆明医学院,昆明,650031
2. 云南省农业技术学院,昆明,650031 |
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| 摘 要： | 利用电磁继电器原理,对JGP500A型超高真空多靶磁控溅射仪进行了改进,从而显著地提高了效率,节约了大量的人力、物力.本文对溅射仪的构造及改进进行了论述.
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| 关 键 词： | 磁控溅射 继电器 薄膜 |
| 文章编号： | 1672-4550(2005)03-0115-02 |
| 修稿时间： | 2005年2月19日 |
The Improvement of Magnetron Sputtering Technique |
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| Wang yong,Wang Jiang,Chen Ping,Wen Xiaoling,Guo Jiazhi.The Improvement of Magnetron Sputtering Technique[J].Experiment Science & Technology,2005,3(3):115-116. |
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| Authors: | Wang yong Wang Jiang Chen Ping Wen Xiaoling Guo Jiazhi |
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