| 纳米压印技术制备表面二维光子晶体发光二极管 |
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| 引用本文： | 陈志远,刘宝林,朱丽虹,樊海涛,曾凡明,林飞.纳米压印技术制备表面二维光子晶体发光二极管[J].厦门大学学报(自然科学版),2014,53(5):693-698. |
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| 作者姓名： | 陈志远 刘宝林 朱丽虹 樊海涛 曾凡明 林飞 |
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| 作者单位： | 1. 厦门大学物理与机电工程学院,福建厦门,361005
2. 厦门大学化学化工学院,福建厦门,361005 |
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| 摘 要： | 研究利用纳米压印技术在氮化镓(GaN)基发光二极管(LED)表面制备二维光子晶体结构对器件出光的影响.利用聚合物(IPS)软模板二次压印技术,在样品表面形成较为完整的掩膜,通过感应耦合等离子体(ICP)刻蚀工艺分别在p-GaN层与ITO层成功制备了较大面积的光子晶体结构,结构周期为465nm,孔状结构直径为245nm.制成芯片后对样品进行测试,结果表明在LED表面制备二维光子晶体结构会导致LED芯片光谱峰值位置发生偏移,同时在p-GaN层制备二维光子晶体结构能够将LED芯片的发光强度提高39%,而在ITO层所制备的光子晶体结构并未对器件的性能有显著的改善.
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| 关 键 词： | 纳米压印 光子晶体 氮化镓 发光二极管 |
Fabrication of Two-dimensional Photonic Crystal Patterns on Light-emitting Diodes' Surface using Nanoimprint Lithography |
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| CHEN Zhi-yuan,LIU Bao-lin,ZHU Li-hong,FAN Hai-tao,ZENG Fan-ming,LIN Fei.Fabrication of Two-dimensional Photonic Crystal Patterns on Light-emitting Diodes' Surface using Nanoimprint Lithography[J].Journal of Xiamen University(Natural Science),2014,53(5):693-698. |
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| Authors: | CHEN Zhi-yuan LIU Bao-lin ZHU Li-hong FAN Hai-tao ZENG Fan-ming LIN Fei |
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| Institution: | CHEN Zhi-yuan;LIU Bao-lin;ZHU Li-hong;FAN Hai-tao;ZENG Fan-ming;LIN Fei;School of Physics and Mechanical & Electrical Engineering,Xiamen University;College of Chemistry and Chemical Engineering,Xiamen University; |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | nanoimprint lithography photonic crystal gallium nitride light-emitting diodes |
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