| MEVVA离子束技术的发展及应用 |
| |
| 引用本文： | 吴先映,廖斌,张旭,李强,彭建华,张荟星,张孝吉.MEVVA离子束技术的发展及应用[J].北京师范大学学报(自然科学版),2014(2):132-138. |
| |
| 作者姓名： | 吴先映 廖斌 张旭 李强 彭建华 张荟星 张孝吉 |
| |
| 作者单位： | 射线束技术与材料改性教育部重点实验室，北京师范大学核科学与技术学院，北京市辐射中心，100875，北京;射线束技术与材料改性教育部重点实验室，北京师范大学核科学与技术学院，北京市辐射中心，100875，北京;射线束技术与材料改性教育部重点实验室，北京师范大学核科学与技术学院，北京市辐射中心，100875，北京;射线束技术与材料改性教育部重点实验室，北京师范大学核科学与技术学院，北京市辐射中心，100875，北京;射线束技术与材料改性教育部重点实验室，北京师范大学核科学与技术学院，北京市辐射中心，100875，北京;射线束技术与材料改性教育部重点实验室，北京师范大学核科学与技术学院，北京市辐射中心，100875，北京;射线束技术与材料改性教育部重点实验室，北京师范大学核科学与技术学院，北京市辐射中心，100875，北京 |
| |
| 基金项目： | 博士学科点专项科研基金资助项目(20110003120010);北京师范大学教育部重点实验室资助项目;国家自然科学基金资助项目(11305009);中央高校基本科研业务费专项资金资助项目(2012LYB24) |
| |
| 摘 要： | 金属蒸汽真空弧放电能够产生高密度的金属等离子体.通过二或三电极引出系统,可以把金属等离子体中的金属离子引出,并加速成为载能的金属离子束,这是MEVVA离子源技术.将载能离子束用于离子注入,可以实现材料表面改性.经过MEVVA源离子注入处理的工具和零部件,改性效果显著,因此MEVVA离子源在离子注入材料表面改性技术中得到很好的应用.另一方面,利用弯曲磁场把等离子体导向到视线外的真空靶室中的同时,过滤掉真空弧产生的液滴(大颗粒),当工件加上适当的负偏压时,等离子体中的离子在工件表面沉积,可以得到高质量的、平整致密的薄膜,称为磁过滤等离子体沉积.是一种先进的薄膜制备的新技术.此外,将MEVVA离子注入与磁过滤等离子体沉积相结合的复合技术,可以首先用离子注入的方法改变基材表面的性能,再用磁过滤等离子体沉积的方法制备薄膜,可以极大的增强薄膜与基材的结合强度,得到性能极佳的薄膜.适用于基材与薄膜性能差别大,结合不易的情况(例如陶瓷、玻璃表面制备金属膜).本文简要介绍了MEVVA离子注入技术、磁过滤等离子体沉积技术和MEVVA复合技术的发展和应用状况.
|
| 关 键 词： | MEVVA离子注入 磁过滤等离子体沉积 材料表面改性 |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ |
|
