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| 等离子体化学气相法沉积金刚石的进展 | |
| 引用本文： | 郑怀礼.等离子体化学气相法沉积金刚石的进展[J].大自然探索,1998,17(2):53-57. |
| 作者姓名： | 郑怀礼 |
| 作者单位： | 重庆建筑大学基础科学系 |
| 摘 要： | 本文评述了化学相沉积法制备人造金刚石薄膜的进展情况。重点评述反应机理，发展历史，沉积方法，衬底材料，检测手段。讨论了有利于形成立方晶系金刚石材料的沉积条件。 |
| 关 键 词： | 金刚石薄膜 化学气相沉积 等离子体 CVD |
DEPOSITION DEVELOPMENTS OF DIAMOND FILMS BY PLASMA CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION |
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| Abstract: | |
| Keywords: | diamond film chemical vapour deposition plasma |
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