| 多层冷压印光刻中超高精度对正的研究 |
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| 引用本文： | 王莉,卢秉恒,崔东印,丁玉成,刘红忠.多层冷压印光刻中超高精度对正的研究[J].西安交通大学学报,2004,38(9):895-899. |
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| 作者姓名： | 王莉 卢秉恒 崔东印 丁玉成 刘红忠 |
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| 作者单位： | 西安交通大学机械工程学院,710049,西安 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(50275118)，国家高技术研究发展计划重点资助项目(2002AA420050)，国家重点基础研究发展规划资助项目(2003CB716202). |
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| 摘 要： | 为满足多层冷压印光刻中套刻的超高精度要求,提出了基于斜纹结构光栅的对正技术.利用光电接收器件阵列组合接收光栅产生莫尔条纹的零级光,得到条纹平面内X、Y方向的对正误差信号.通过调整光栅副的间隙来提高误差信号的对比度.利用高对比度和灵敏度的误差信号作为控制系统的驱动信号,对承片台进行宏微两级驱动控制,并由激光干涉仪作为控制系统的反馈环节在驱动过程中进行全程监测,实现自动对正.最终使在X、Y方向上的重复对正精度达到了±20nm,满足了100nm特征尺寸压印光刻的对正精度要求.
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| 关 键 词： | 压印光刻 结构光栅 莫尔条纹 超高精度 对正 |
| 文章编号： | 0253-987X(2004)09-0895-05 |
| 修稿时间： | 2003年3月8日 |
Ultra-Precision Alignment for Room-Temperature Multi-Layer Imprint Lithography |
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| Wang Li,Lu Bingheng,Cui Dongyin,Ding Yucheng,Liu Hongzhong.Ultra-Precision Alignment for Room-Temperature Multi-Layer Imprint Lithography[J].Journal of Xi'an Jiaotong University,2004,38(9):895-899. |
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| Authors: | Wang Li Lu Bingheng Cui Dongyin Ding Yucheng Liu Hongzhong |
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