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| 非晶形铁的氧化物薄膜的激光化学气相沉积 | |
| 引用本文： | 沈光平.非晶形铁的氧化物薄膜的激光化学气相沉积[J].科学通报,1985,30(16):1271-1271. |
| 作者姓名： | 沈光平 |
| 作者单位： | 上海市激光技术研究所 (沈光平，周政卓)，上海市激光技术研究所(邱明新) |
| 摘 要： | 激光化学气相沉积(LCVD)是通过激光光分解气相有机化合物分子,分解出金属原子沉积在基片表面的一种新型的薄膜制备技术,与传统制备薄膜方法相比,这种方法可在室温下一步完成制备过程,不需要掩膜版,便于对沉积过程进行控制。用这种方法,沉积速率高,膜层的纯度高,并且目前已实现了0.2微米量级的空间分辨率和3.5微米量级大小的光斑。所以LCVD作为一种新的手段,在微电子学工业上将有重要的应用价值。 |
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