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| VO2薄膜的制备工艺研究 | |
| 引用本文： | 卫红,王小辉,唐振方,曹一鸣,刘志宇.VO2薄膜的制备工艺研究[J].中国科技成果,2009,10(15):42-44. |
| 作者姓名： | 卫红 王小辉 唐振方 曹一鸣 刘志宇 |
| 作者单位： | 广州市光机电技术研究院,广东,广州,510663 |
| 摘 要： | 采用射频磁控溅射沉积方法，在加热衬底上溅射制备高价态的五氧化二钒（V2O5）薄膜，再结合气氛退火工艺制备VO2薄膜。系统分析了不同溅射工艺参数和退火工艺参数对VO2薄膜结构与光电性能的影响，得到制备VO2薄膜的最佳工艺参数。 |
| 关 键 词： | 射频磁控溅射 VO2薄膜 制备工艺 |
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