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吸附溶出催化伏安法测定痕量锗的研究
引用本文:孙长清,高茜,奚居柏,赵元俊,许宏鼎,李玫.吸附溶出催化伏安法测定痕量锗的研究[J].吉林大学学报(理学版),1990(1).
作者姓名:孙长清  高茜  奚居柏  赵元俊  许宏鼎  李玫
作者单位:吉林大学化学系 (孙长清,高茜,奚居柏,赵元俊,许宏鼎),长春市卫生学校(李玫)
摘    要:提出了吸附溶出催化伏安法测定痕量锗的方法。该方法最佳体系为0.15 mol/L KCl+1.0×10~(-3) mol/L 3,4-二羟基苯甲醛(DHB)+2.0×10~(-3)mol/L EDTA+3.0×10~(-3)mol/L V(Ⅳ),pH2.15。其线性范围为1.2×10~(-10)~6.O×10~(-8)mol/L,最低检出浓度为3.6×10~(-11)mol/L Ge(Ⅳ)。

关 键 词:  吸附溶出催化伏安法

Studies on Determination of Trace Germanium by Adsorptive Stripping Catalytic Voltammetry
Sun Changqing,Gao Qian,Xi Jubai,Zhao Yuanjun and Xu Hongding.Studies on Determination of Trace Germanium by Adsorptive Stripping Catalytic Voltammetry[J].Journal of Jilin University: Sci Ed,1990(1).
Authors:Sun Changqing  Gao Qian  Xi Jubai  Zhao Yuanjun and Xu Hongding
Abstract:
Keywords:germanium  adsorptive stripping catalytic voltammetry
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