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| 对向靶溅射α″-Fe16N2薄膜的结构与磁性 | |
| 作者姓名： | 许英华 姜恩永 侯登录 |
| 作者单位： | 天津大学理学院,应用物理学系,天津,300072;天津大学理学院,应用物理学系,天津,300072;河北师范大学,物理系,石家庄,050016 |
| 基金项目： | 中国科学院资助项目,50072015, |
| 摘 要： | 用对向靶反向溅射法制备了α″－Fe16N2薄膜,用X射线衍射（XRD）和振动样品磁强计（VSM）对其结构、磁性进行了分析讨论,对磁性的分析表明造成饱和磁化强度存在较大差异的原因与其晶胞的大小有很大的关系。 |
| 关 键 词： | 饱和磁化强度 对向靶溅射 Fe16N2薄膜 |
| 文章编号： | 1000-5854(2000)04-0459-03 |
| 修稿时间： | 2000-08-14 |
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