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| 脉冲激光诱导蒸气沉积硅薄膜 | |
| 引用本文： | 杨静然.脉冲激光诱导蒸气沉积硅薄膜[J].科学通报,1986,31(13):1000-1000. |
| 作者姓名： | 杨静然 |
| 作者单位： | 中国科学院长春应用化学研究所 (杨静然)，中国科学院长春应用化学研究所(彭桂芳) |
| 摘 要： | 近年来,激光诱导化学反应研究的很广泛。激光的频率调谐到与分子的振荡能级相匹配时,分子的振动模式将受到很大影响。类似分子的激发,可以导致在基板上沉积固体薄膜。硅薄膜在太阳能材料和半导体工业方面是很重要的。它可用不同的方法来制备,其中化 |
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