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Sin/Sin-(n=710)的结构和电子亲合能的研究
引用本文:杨桔材,徐文国,肖文胜. Sin/Sin-(n=710)的结构和电子亲合能的研究[J]. 北京理工大学学报, 2005, 25(10): 922-925
作者姓名:杨桔材  徐文国  肖文胜
作者单位:1. 北京理工大学,理学院,北京,100081;内蒙古工业大学,化工学院,内蒙古,呼和浩特,010062
2. 北京理工大学,理学院,北京,100081
摘    要:选用4种不同的密度泛函理论方法(B3LYP,BLYP,BP86,B3P86),在全电子的双ζ加极化加弥散函数基组(DZP )下,对Sin/Si-n (n=7~10)体系进行研究,获得它们的基态结构和电子亲合能.预测Si7/Si-7,Si8/Si-8,Si9/Si-9和Si10/Si-10的基态结构分别为D5h(1A′ 1)/D5h(2A″ 2),C2h(1Ag)/C3υ(2A2),Cs(1A′)/Cs(2A′)和C3υ(1A1)/C3υ(2A1).理论预测Si7,Si8,Si9和Si10的电子亲合能分别为1.90,2.59,2.07和2.20 eV,BLYP方法预测的电子亲合能最为可靠的.

关 键 词:  分子结构  电子亲合能  密度泛函理论  基态结构  电子亲合能  研究  Silicon  Electron Affinity  密度泛函理论方法  理论预测  体系  基组  弥散函数  极化  全电子
文章编号:1001-0645(2005)10-0922-04
收稿时间:2004-11-01
修稿时间:2004-11-01

Structure and Electron Affinity of Silicon Sin/Si-n (n=7~10)
YANG Ju-cai,XU Wen-guo and XIAO Wen-sheng. Structure and Electron Affinity of Silicon Sin/Si-n (n=7~10)[J]. Journal of Beijing Institute of Technology(Natural Science Edition), 2005, 25(10): 922-925
Authors:YANG Ju-cai  XU Wen-guo  XIAO Wen-sheng
Affiliation:1. School of Science, Beijing Institute of Technology, Beijing 100081, China; 2. School of Chemical Engineering, Inner Mongolia University of Technology, Huhehaote, Nei Monggol 010062, China
Abstract:
Keywords:silicon clusters  molecular structures  electron affinities  density functional theory
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