| 射频离子镀氮化钛的实验研究 |
| |
| 引用本文： | 崔永植.射频离子镀氮化钛的实验研究[J].东北大学学报(自然科学版),1989(6). |
| |
| 作者姓名： | 崔永植 |
| |
| 作者单位： | 东北工学院表面加工技术研究所 |
| |
| 摘 要： | 较系统地研究了射频离子镀氮化钛工艺。分析了各参数之间的制约关系,提出了合理控制工艺参数的方法。研究结果表明,射频离子镀的成膜速度随炉内压力的减小而加快,电子枪功率的加大将提高了离子束电流强度,基板与蒸发源距离的加大将降低成膜速度;粒子的入射角度在 45°—135°为宜。但成膜速度与射频起振器功率、基板的负偏压无关。要想提高离子的密度,必须加大电子枪功率,同时要增大射频的起振动率。
|
| 关 键 词： | 射频离子镀 饱和蒸气压 离子束强化 |
Experimnetal Stucdy on RF Ionic Tin Plating |
| |
| Cui Yongzhi.Experimnetal Stucdy on RF Ionic Tin Plating[J].Journal of Northeastern University(Natural Science),1989(6). |
| |
| Authors: | Cui Yongzhi |
| |
| Institution: | Cui Yongzhi |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | ion plating saturated vapor pressure ion beam intensification |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ |
|
