| 氮化钛作为新型节能玻璃涂层的研究 |
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| 作者姓名： | 郑鹏飞 赵高凌 张天播 吴历清 汪建勋 韩高荣 |
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| 作者单位： | 浙江大学材料系硅材料国家重点实验室,杭州,310027;浙江大学材料系硅材料国家重点实验室,杭州,310027;浙江大学材料系硅材料国家重点实验室,杭州,310027;浙江大学材料系硅材料国家重点实验室,杭州,310027;浙江大学材料系硅材料国家重点实验室,杭州,310027;浙江大学材料系硅材料国家重点实验室,杭州,310027 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金（批准号：50372060和50672086）资助项目 |
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| 摘 要： | 利用常压化学气相沉积法(APCVD)以四氯化钛(TiCl4)和氨气(NH3)作为反应物在玻璃基板上沉积制备了氮化钛(TiN)薄膜. 分别用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、四探针电阻仪和分光光度计等对TiN薄膜的结晶性能、微观结构、表面形貌和光学、电学性能进行了分析. 结果表明, 制备的TiN薄膜厚度为500 nm, 具有NaCl型面心立方结构并表现出(200)晶面的择优取向, 薄膜的晶粒大小分布均匀. 在可见光区的透射率达到60%, 反射率小于10%. 在近红外光区的反射率达40%以上. 方块电阻为34.5 Ω, 按照Drude理论可以计算出薄膜的中远红外反射率为71.5%, 说明制备的TiN薄膜在保证足够取光的条件下表现出良好的节能性能.
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| 关 键 词： | 氮化钛 常压化学气相沉积法 节能涂层 |
| 收稿时间： | 2006-11-24 |
| 修稿时间： | 2006-11-242007-04-03 |
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