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V2NO2/TiSi2N4异质结界面性质调控的理论研究
引用本文:冯继辰,马宁,牛丽.V2NO2/TiSi2N4异质结界面性质调控的理论研究[J].高师理科学刊,2024(1):51-55.
作者姓名:冯继辰  马宁  牛丽
作者单位:1. 哈尔滨师范大学物理与电子工程学院;2. 哈尔滨师范大学计算机科学与信息工程学院
摘    要:使用第一性原理计算研究了外加电场对V2NO2/TiSi2N4异质结构接触类型和肖特基势垒的调控.计算结果表明,外电场可以有效地调控V2NO2/TiSi2N4肖特基势垒的高度及其异质结的接触类型.正负向外电场均能实现V2NO2/TiSi2N4异质结构p型与n型肖特基接触之间的动态转化.此项工作为基于TiSi2N4半导体的肖特基功能器件及场效应晶体管的应用提供理论基础.

关 键 词:MXenes  异质结  肖特基势垒  第一性原理  MA2Z4
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