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| 一种耐高温紫外正型光刻胶及光刻工艺 | |
| 引用本文： | 艾骏,曾晓雁,刘建国.一种耐高温紫外正型光刻胶及光刻工艺[J].科学通报,2016(6):610-617. |
| 作者姓名： | 艾骏 曾晓雁 刘建国 |
| 作者单位： | 华中科技大学光学与电子信息学院武汉光电国家实验室 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金(51172081,51473058和51135005)资助 |
| 摘 要： | 光刻胶作为光刻技术中的关键性基础材料,其配方组成和光刻工艺对光刻胶的分辨率等性能有重要影响.以自制的酰胺-酰亚胺聚合物作为成膜树脂,与感光剂2,1,5-磺酰氯的衍生物等其他成分按一定比例配制成光刻胶,通过研究不同配比、不同光刻工艺条件下的光刻性能,得到了该光刻胶的最佳配方组成及最佳光刻工艺条件.该光刻胶的成像反差可达到约3.35;在最佳配方组成和最佳光刻工艺条件下,采用接触式曝光,可以获得最大约1?m的线宽分辨率,同时该光刻胶具有良好的耐热性,270℃高温下坚膜30 min,光刻图形未发现明显塌边现象. |
| 关 键 词： | 紫外正型光刻胶 酰胺-酰亚胺树脂 光刻工艺 |
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