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Ti基体上形成微弧氧化膜组成和结构的研究
引用本文:刘福,宋英,王福平,孙德智.Ti基体上形成微弧氧化膜组成和结构的研究[J].燕山大学学报,2009,33(1).
作者姓名:刘福  宋英  王福平  孙德智
作者单位:1. 哈尔滨工业大学,材料科学与工程学院,黑龙江,哈尔滨,150001;哈尔滨工业大学,市政环境工程学院,黑龙江,哈尔滨,150001
2. 哈尔滨工业大学,应用化学系,黑龙江,哈尔滨,150001
3. 哈尔滨工业大学,市政环境工程学院,黑龙江,哈尔滨,150001
摘    要:在甘油磷酸钙和醋酸钙电解液中采用直流电源对纯Ti进行了微弧氧化.采用微弧氧化方法所制备的氧化膜具有粗糙多孔的结构,且微孔直径随着电压的增加而增大.AES分析表明在基体与氧化膜界面发生了扩散,从基体钛到氧化膜的表面氧的浓度逐渐增大,钛的浓度逐渐减小.XPS分析表明氧化膜的组成随着所施加的微弧氧化电压而改变,微弧氧化电压为200 V时TiO2、Ti2O3和TiO占Ti的原子百分比分别为72.61%、22.08%和5.31%;当微弧氧化电压为350 V时氧化膜表面Ti元素只由TiO2、Ti2O3,组成,且占Ti的原子百分比分别为85.48%、14.52%.

关 键 词:微弧氧化  氧化膜  

Study on composition and structure of oxide film formed by microarc oxidation on Ti substrate
LIU Fu,SONG Ying,WANG Fu-ping,SUN De-zhi.Study on composition and structure of oxide film formed by microarc oxidation on Ti substrate[J].Journal of Yanshan University,2009,33(1).
Authors:LIU Fu  SONG Ying  WANG Fu-ping  SUN De-zhi
Abstract:
Keywords:XPS
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