|
|||||
|
|
| 图案化金属铜膜的SIAD法自组装制备 | |
| 作者姓名： | 李星星 蒋美萍 朱贤方 苏江滨 |
| 作者单位： | 常州大学数理学院电子科学与工程系;湖北汽车工业学院理学系;厦门大学中国-澳大利亚功能纳米材料联合实验室,厦门大学物理系 |
| 基金项目： | 常州大学自然科学基金(ZMF02020042);国家科技计划国际科技合作与交流专项(2008DFA51230)资助 |
| 摘 要： | 利用新发展的小入射角沉积(SIAD)技术在玻璃衬底上自组装制备了图案化金属铜膜.利用金相显微镜(MM)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)/选区电子衍射(SAED)/能量弥散X射线光谱仪(EDX)以及X射线衍射仪(XRD)等技术对所制备的图案化金属铜膜进行了表征.通过分析对比SIAD和垂直入射沉积(NID)铜沉积物的形貌和结构差异,揭示了图案化金属铜膜的形成机理. |
| 关 键 词： | 图案化金属铜膜 小入射角沉积(SIAD) 定向压应力 层-线状生长 自组装制备 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |