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声表面波器件金刚石薄膜基片的制备工艺
引用本文:张玉军,吕反修,张建军,陈良贤. 声表面波器件金刚石薄膜基片的制备工艺[J]. 北京科技大学学报, 2008, 30(5): 544-547
作者姓名:张玉军  吕反修  张建军  陈良贤
作者单位:北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083
基金项目:北京科技大学和中国电子科技集团公司第二十六研究所合作项目
摘    要:为制备高质量的声表面波器件,探索金刚石薄膜的沉积工艺,采用直流电弧等离子体喷射化学气相沉积技术和特殊的复合衬底技术,在单晶硅衬底上制备了大面积、高质量的金刚石薄膜,成功解决了单晶硅衬底在沉积金刚石薄膜过程中产生的变形问题.研究了甲烷浓度和沉积温度对金刚石薄膜质量的影响,优化了沉积工艺.结果表明,甲烷气体体积分数为1.8%时,晶粒最为细小,同时金刚石薄膜的表面粗糙度最小,表面最为光滑.衬底温度为1000℃时生长的金刚石薄膜的晶粒尺寸较小.

关 键 词:金刚石薄膜  直流电弧等离子体喷射化学气相沉积  复合衬底  制备工艺
修稿时间:2007-03-26

Technique of preparing diamond films on poly-substrate by DC-arc plasma jet CVD for surface acoustic wave devices
ZHANG Yujun,LV Fanxiu,ZHANG Jianjun,CHEN Liangxian. Technique of preparing diamond films on poly-substrate by DC-arc plasma jet CVD for surface acoustic wave devices[J]. Journal of University of Science and Technology Beijing, 2008, 30(5): 544-547
Authors:ZHANG Yujun  LV Fanxiu  ZHANG Jianjun  CHEN Liangxian
Abstract:
Keywords:diamond films  DC-arc plasma jet CVD  poly-substrate  process
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