| 沉积于硅纳米孔柱阵列上的铜纳米颗粒退火行为研究 |
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| 引用本文： | 柴花斗,杨晓辉,富笑男,李新建.沉积于硅纳米孔柱阵列上的铜纳米颗粒退火行为研究[J].科学技术与工程,2006,6(17):2728-2732. |
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| 作者姓名： | 柴花斗 杨晓辉 富笑男 李新建 |
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| 作者单位： | 郑州大学物理系,材料物理教育部重点实验室,郑州,450052 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金（10574112）资助 |
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| 摘 要： | 以具有规则表面形貌的硅纳米孔柱阵列（Silicon Nanoporous Pillar Array，Si-NPA）作为还原性衬底和组装模板，采用浸渍技术制备了铜／Si-NPA（Cu／Si-NPA）纳米复合体系。将新鲜制备的Cu／Si-NPA样品分别在400℃、600℃和800℃氮气气氛中退火，对比研究了沉积于Si-NPA衬底之上的铜纳米颗粒的表面形貌、晶粒尺寸随温度的演化规律。在较低、较高温度下退火时，铜纳米颗粒所发生的定向迁移、颗粒长大及中心凝聚现象分别在Ostwald成熟理论和团簇扩散理论的框架下得到了解释。
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| 关 键 词： | 硅纳米孔柱阵列（Si-NPA） Cu／Si-NPA纳米复合体系 Ostwald成熟理论 团簇扩散理论 |
| 文章编号： | 1671-1815（2006）17-2728-05 |
| 收稿时间： | 2006-05-09 |
| 修稿时间： | 2006年5月9日 |
Research on Annealing Behavior of Copper Nanoparticles Deposited on Silicon Nanoporous Pillar Array |
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| CHAI Huadou,YANG Xiaohui,FU Xiaonan,LI Xinjian.Research on Annealing Behavior of Copper Nanoparticles Deposited on Silicon Nanoporous Pillar Array[J].Science Technology and Engineering,2006,6(17):2728-2732. |
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| Authors: | CHAI Huadou YANG Xiaohui FU Xiaonan LI Xinjian |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | silicon nanoporous pillar array (Si-NPA) Cu/Si-NPA nanocomposite system Ostwald ripening theory cluster diffusion theory |
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