| 膏剂空心阴极放电离子渗硼机理研究 |
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| 引用本文： | 高原,唐宾,王从曾,苏永安.膏剂空心阴极放电离子渗硼机理研究[J].太原理工大学学报,1991(3). |
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| 作者姓名： | 高原 唐宾 王从曾 苏永安 |
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| 作者单位： | 太原工业大学离子渗金属及热处理研究所，太原工业大学离子渗金属及热处理研究所，太原工业大学离子渗金属及热处理研究所，太原工业大学离子渗金属及热处理研究所 |
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| 摘 要： | 本文对空心阴极放电离子渗硼的机理以及渗入速度快的原因作了分析,并结合试验结果提出了强化渗速的机理。
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| 关 键 词： | 空心阴极电放 辉光放电 弧光放电 |
Mechanism Research of Plasma Boronizing by Hollow Cathode Discharge |
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| Gao Yuan Tarig Bin Wang Congzeng Su Yong''''an.Mechanism Research of Plasma Boronizing by Hollow Cathode Discharge[J].Journal of Taiyuan University of Technology,1991(3). |
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| Authors: | Gao Yuan Tarig Bin Wang Congzeng Su Yong'an |
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| Institution: | Research Institute of Plasma Surface Metallurgy and Heat Treatment |
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| Abstract: | This Paper deals with the mechanism of plasma boronizing which is of high permeance rate by hollow cathode discharge. The causes that plasma boronizing rate is quicker are put forward. |
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| Keywords: | hollow cathode discharge glow discharge arc light discharge |
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