AlGaInP/ GaAs 外延层的倒易空间图分析 |
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引用本文: | 李华兵, 范广涵, 王浩, 吴文光, 陈贵楚, 陈练辉. AlGaInP/ GaAs 外延层的倒易空间图分析[J]. 华南师范大学学报(自然科学版), 2005, (1): 55. |
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作者姓名: | 李华兵 范广涵 王浩 吴文光 陈贵楚 陈练辉 |
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作者单位: | 华南师范大学光电子材料与技术研究所,广东广州,510631;华南师范大学光电子材料与技术研究所,广东广州,510631;华南师范大学光电子材料与技术研究所,广东广州,510631;华南师范大学光电子材料与技术研究所,广东广州,510631;华南师范大学光电子材料与技术研究所,广东广州,510631;华南师范大学光电子材料与技术研究所,广东广州,510631 |
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基金项目: | 国家科技攻关计划基金(00-068) |
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摘 要: | 介绍了倒易点二维图的概念,分析了AlGaInP/GaAs外延层的倒易点二维图,阐明其倒易点二维图的展宽方向和原因,获得了应变及晶面弯曲等方面的信息,为优化AlGaInP四元系发光二极管的外延工艺提供了更丰富的信息.
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关 键 词: | AlGaInP/GaAs X射线衍射 倒易点二维图 |
文章编号: | 1000-5463(2005)01-0055-05 |
修稿时间: | 2004-04-12 |
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