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AlGaInP/ GaAs 外延层的倒易空间图分析
引用本文:李华兵, 范广涵, 王浩, 吴文光, 陈贵楚, 陈练辉. AlGaInP/ GaAs 外延层的倒易空间图分析[J]. 华南师范大学学报(自然科学版), 2005, (1): 55.
作者姓名:李华兵  范广涵  王浩  吴文光  陈贵楚  陈练辉
作者单位:华南师范大学光电子材料与技术研究所,广东广州,510631;华南师范大学光电子材料与技术研究所,广东广州,510631;华南师范大学光电子材料与技术研究所,广东广州,510631;华南师范大学光电子材料与技术研究所,广东广州,510631;华南师范大学光电子材料与技术研究所,广东广州,510631;华南师范大学光电子材料与技术研究所,广东广州,510631
基金项目:国家科技攻关计划基金(00-068)
摘    要:介绍了倒易点二维图的概念,分析了AlGaInP/GaAs外延层的倒易点二维图,阐明其倒易点二维图的展宽方向和原因,获得了应变及晶面弯曲等方面的信息,为优化AlGaInP四元系发光二极管的外延工艺提供了更丰富的信息.

关 键 词:AlGaInP/GaAs  X射线衍射  倒易点二维图
文章编号:1000-5463(2005)01-0055-05
修稿时间:2004-04-12
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