| 缺陷模带隙一维光子晶体的简捷制备 |
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| 引用本文： | 王霞,吕浩,谭永炎. 缺陷模带隙一维光子晶体的简捷制备[J]. 中国科学:物理学 力学 天文学, 2012, 0(10): 1012-1016 |
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| 作者姓名： | 王霞 吕浩 谭永炎 |
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| 作者单位： | [1]青岛科技大学数理学院光信息技术研究所．青岛266061 [2]香港科技大学物理系,香港 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金（批准号：10974106,11274189）、山东省自然科学基金（编号：JQ20L018,2009ZRA02051）和山东省高等学校科技计划（编号：J09LA10）资助项目感谢审稿人认真负责的积极评价,感谢课题组赵秋玲副教授的有益探讨和交流. |
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| 摘 要： | 提出一种制备具有缺陷模带隙光子晶体实验技术思路.采用激光全息光刻方法,以夹角不同两束干光对感光物质进行两次光刻曝光,在曝光重叠区域可获具有缺陷模带隙一维光子晶体.调节入射光角度可改变缺陷模位置.研究供了简捷制作缺陷模带隙光子晶体一种实验技术思路,对缺陷模低阈值激射具有应用研究价值.
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| 关 键 词： | 缺陷模光子禁带 全息光刻技术 一维光子晶体 |
Fabrication of one-dimensional photonic crystal with defect mode band gap |
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| Affiliation: | WANG Xla , LU Hao ＆ TAM WingYim. Physics Department, the Institute of Photonic Information, QingDao University of Science and Technology QingDao 266061, China; Physics Department, the Hong Kong University of Science and Technology Hang Kong, China |
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| Abstract: | We proposed an experimental method to fabricate defect mode photonic crystal in this paper. By employing double exposure with two coherent beams interfering on the photoresist, we obtained one dimensional defect mode photonic crystal at the overlapped areas using holographic lithography. The position of the defect mode band gap can be changed by varying the incident beams angle. This study provides a novel method to fabricate defect mode photonic crystals and paves the way for further research in low-threshold lasing field. |
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| Keywords: | defect mode band gap holographic lithography photonic crystal |
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