| 尺寸形貌对硅纳米锥阵列结构反射特性的影响 |
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| 引用本文： | 黎相孟,祝锡晶,魏慧芬,崔学良,李建素.尺寸形貌对硅纳米锥阵列结构反射特性的影响[J].河北科技大学学报,2018,39(6):487-493. |
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| 作者姓名： | 黎相孟 祝锡晶 魏慧芬 崔学良 李建素 |
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| 作者单位： | 中北大学先进制造技术山西省重点实验室,中北大学先进制造技术山西省重点实验室,中北大学仪器与电子学院,中北大学先进制造技术山西省重点实验室,中北大学先进制造技术山西省重点实验室 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金（51705479）; 山西省青年科技研究基金（201701D221128, 201701D221167）; 中北大学校科学基金(2017005) |
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| 摘 要： | 为了探讨不同尺度和形貌的硅纳米锥阵列结构表面的光学特性,采用基于纳米粒子自组装薄膜掩蔽的亚微米干法刻蚀工艺,在硅基材表面制备了纳米锥阵列结构,并对纳米锥阵列结构进行了形貌表征及光学测试。结果表明,采用SF6和C4F8混合气体,其体积流量分别为12sccm和27sccm,功率750 W,偏压25V时,可以获得光学减反射性能优异的纳米锥阵列结构。通过调节刻蚀时长获得形貌相似而尺寸不同的硅纳米锥阵列结构。200nm和400nm周期硅纳米锥阵列结构表面具有2%～3%的反射率,而800nm周期硅纳米锥阵列结构表面则接近于硅基材背面的反射率并高于10%,说明亚波长结构的减反射特性更加显著。从实验上揭示了尺寸形貌对硅纳米锥阵列结构反射特性的影响规律,为进一步研究光学器件方面的应用提供了参考。
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| 关 键 词： | 等离子体动力学 干法刻蚀 硅纳米锥阵列 亚波长结构 减反射 |
| 收稿时间： | 2018/9/1 0:00:00 |
| 修稿时间： | 2018/9/28 0:00:00 |
Effect of size and shape on reflective properties of silicon nanocone arrays |
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| LI Xiangmeng,ZHU Xijing,WEI Huifen,CUI Xueliang and LI Jiansu.Effect of size and shape on reflective properties of silicon nanocone arrays[J].Journal of Hebei University of Science and Technology,2018,39(6):487-493. |
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| Authors: | LI Xiangmeng ZHU Xijing WEI Huifen CUI Xueliang and LI Jiansu |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | plasma dynamics dry etching silicon nanocone array subwavelength structure antireflection |
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